特性
搭載光譜分析軟體，可同時測量多層膜的膜厚（通常為3層），以及測量光學定數（n，k）。
可設定詳細參數以適用於各類膜，用途更為廣泛。
感光元件採用線性圖像傳感元件，實現高速測量。
通過設定高感度高分解偵測頭（選配），氧化膜可測量至70μm，同時配合使用100倍接物鏡（可觀察至點半徑0.75μm）。
可簡單設定適合於觀察測量特殊膜的程式。
通過選配可實現多種應用（磁場偵測頭，FPD，材料研究等）
最新系統應用於Windows7程式
測量原理
下圖為光學干涉法薄膜測厚儀的原理。
通過接物鏡向參照測量物件射入垂直光線，其反射光線將被分散為各種波長。採集各波長的資料以建立資料庫，形成測量模型。每當測量時，將測量結果的光譜與資料庫的光譜進行對比，取出最近似的資料作為測量 結果輸出。（曲線擬合法）
可選配件
· 高感度高分解偵測頭（Model 3100）
· USB攝像頭
· 防震台（用於高倍率）
基本配置
測量程式 | 任何基板材質的多層膜（一般為3層） |
可測量的波長範圍 | 380～800nm |
可測量的膜厚範圍 | 100Å～30μm |
測量重現精度 | 2Å[同一點15回測定時1δ] |
測定時間 | 0.1～25秒/1點 |
接物鏡 | 5倍（φ50μm） |
接物鏡（選配) | 10倍（φ50μm） 50倍（φ5μm） |
