電漿輔助化學氣相沉積系統

  • 產品型號:VDS-5800 Series
  • 制造原廠:JAPAN PRODUCTION & ENGINEERING LABORATORIES INC.

專供複合半導體GaN&GaAs使用之自動化量產型電漿輔助化學氣相沉積系統, 佔地面積小, 高產出, 低維修成本. 超過40年經驗的設備製造經驗

VDS-5800SNC

VDS-5800SNC-L

晶圓容量

2inch

30

42

3inch

15

21

4inch

9

12

6inch

5

8

基座

Φ527mm

Φ670mm

频率

400kHz/13.56MHz

積率範圍

5110nm/min

薄膜力控制

3%以下

稼動率

97%以上

選項

實時製程監控