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專供複合半導體GaN&GaAs使用之自動化量產型電漿輔助化學氣相沉積系統, 佔地面積小, 高產出, 低維修成本. 超過40年經驗的設備製造經驗
VDS-5800SNC
VDS-5800SNC-L
晶圓容量
2inch
30
42
3inch
15
21
4inch
9
12
6inch
5
8
基座
Φ527mm
Φ670mm
频率
400kHz/13.56MHz
沉積率範圍
5~110nm/min
薄膜應力控制
是
均勻性
3%以下
稼動率
97%以上
選項
實時製程監控