半導體
太陽能製程
薄膜厚度及反射率

全自動膜厚測試儀

  • 產品型號：NanoSpec II
  • 制造原廠：Nanometrics Inc.

NanoSpec II擴展了業界公認的NanoSpec系列的範圍和性能，引入了一種新型設計，具有自動化樣品對準，快速自動對焦和測量重複性優於1Å。 

NanoSpec II結合Nanometrics功能強大的重新設計的光譜反射率分析軟體NanoDiffract®，自動圖案對準的影像處理和各種光學配置選項，使NanoSpec II實現了同類中最強大的薄膜測試系統的自動化。

標準特性

  • 晶圓尺寸：50mm - 200mm 200mm - 300mm

  • 樣品台控制 - 多個滑鼠點擊選項，全自動recipe控制

  • FFT厚度分析演算法

  • NanoDiffract®SR分析具有完整的堆疊多層和光學常數變化監測

  • 基於影像處理的自動圖案化晶圓對準

可選特性

  • Nanostandard膜厚標準片

  • SECS/GEM自動通信協議

  • NanoDiffract SR分析工作站

強大且易用

NanoSpec II與前幾代NanoSpec產品的材料模型完全相容。此外，由Woolam 橢偏儀系統創建的許多色散模型可以導入和使用，無需轉換。

nspec-1.jpg

由最先進的建模和分析引擎NanoDiffract®提供支援，即使是複雜的多層堆疊也可以輕鬆測量。

支援使用者級別訪問的易用使用者介面允許創建全自動recipe - 包括圖案化晶圓上的圖案識別 - 以及手動測量。

多種光學配置選項使得該系統能夠在難以取樣的薄膜（低至30埃），非常厚的薄膜（高達130um）以及非常粗糙的表面上提供卓越的性能。


規格

光譜範圍

200-800nm

450-1050nm

500-800nm

厚度範圍

35A-20um

100nm-30um

500nm-120um

動態重複性/穩定性(1-sigma)

3.5-10nm

<1.00Å

N/A

N/A

10nm-100nm

<0.80Å

N/A

N/A

100nm-500nm

<0.08%

<0.10%

N/A

500nm-20um

<0.05%

<0.10%

<0.05%

20um-30um

N/A

<0.10%

<0.05%

30um-120um

N/A

N/A

<0.05%

系統間一致性(最大厚度變化)

125 A ±0.5%

1,200 A ±0.2%

10,000 A ±0.2%

精度(厚度,具體以標準片為準)

100-200 Å

±5 Å

300Å-1um

±0.5%

1µm-150µm

±0.2%

反射率

248 nm ± 0.50% (DUV)

365 nm ± 0.50% (DUV)

633 nm ± 0.50%


NanoSpec II
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