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新的OAI型號800E半自動雙面光刻機,具有先進的功能和規格, 隨著800E的誕生,OAI在半導體與MEMS市場有了革命性的適用於研發與小規模量產的拳頭產品
半自動單/雙面對準曝光機
波長220nm-405nm可選
相容4-8inch
可選近/中/遠UV及LED光源Proximity 精度 3umSoft contact 精度2umHard contact精度1umVacuum contact 精度0.8um
自動補償,自動z軸升降
雙通道光路回饋
可選配納米壓印模組