OAI型號200光刻機是一款性價比較高的高性能光刻機, 已經被工業界所公認,OAI 是光刻設備行業的領導者。 Model 200是一個臺式光刻機, 只需要非常小的潔淨室。 它為研發提供了一個經濟性的選擇, 或者可用於有限規模的試驗性生產。 利用一個創新的, 空氣軸承 / 真空卡盤平整系統, 基板在接觸接觸過程中迅速和緩慢地平整基板, 使平行的照片掩模對齊晶圓並均勻接觸。 該系統具有1um的解析度和對準精度
僅需要很小的潔淨室空間
對襯底的損傷降低到最低
對準精度1um
廣泛適用於多種襯底與光罩
背面對準支持IR穿透
晶圓光刻精度支持3-5um
高對準精度，高均勻性UV光源
迅速切換UV光源波長
曝光均勻性在2%以內
可用于納米列印工具
可選配微流體研究模組
