半导体
集成电路工艺
曝光机

半自动光刻机

  • 产品型号：Model 800E
  • 制造原厂：OAI INSTRUMENTS

新的OAI型号800E半自动双面光刻机，具有先进的功能和规格, 随着800E的诞生，OAI在半导体与MEMS市场有了革命性的适用于研发与小规模量产的拳头产品    


  • 半自动单/双面对准曝光机

  • 波长220nm-405nm可选

  • 兼容4-8inch

  • 可选近/中/远UV及LED光源

  • Proximity 精度 3um

  • Soft contact 精度2um

  • Hard contact精度1um

  • Vacuum contact 精度0.8um

  • 自动补偿,自动z轴升降

  • 双通道光路反馈

  • 可选配纳米压印模组    


OAI-Model 800E
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