半导体
集成电路工艺
曝光机

全自动光刻机

  • 产品型号：Model 6000
  • 制造原厂：OAI INSTRUMENTS

  • 用途: 半导体, MEMS, 传感器, 微流体, IOT, 封装

  • 6000系列基于成熟的 OAI 模块化平台, 具有前面或背面的一致性, 具有完全自动化的亚微米分辨率, 提供的性能是无与伦比的    


  • 波长220nm-405nm可选

  • 兼容4-8inch

  • 可选UV LED光源

  • Proximity 精度 3um

  • Soft contact 精度2um

  • Hard contact精度1um

  • Vacuum contact 精度0.8um  双摆臂4轴机械手

  • 自平衡防震装置

  • 高产能可达180wph

  • 先进光路系统    


OAI-Model 6000
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